【标题】二巯基噻二唑自组装对铜缓蚀行为研究

【作者】童耀斌 罗红群 李念兵

【单位】西南大学化学化工学院,重庆400715

【摘要】本文采用电化学方法探讨了二巯基噻二唑（DMTD）自组装膜在3％NaCI溶液中对铜的缓蚀作用。实验表明二巯基噻二唑已经成功地组装到铜的表面，并具有良好的缓蚀作用。当二巯基噻二唑的浓度浓度均为1×10-2mol／L。组装时间为25h时的腐蚀电流最小，缓蚀效率最好。

【关键词】二巯基噻二唑 铜电极 缓蚀 自组装膜

【论文】二巯基噻二唑自组装对铜缓蚀行为研究.pdf